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排膠燒結一體爐的應用於蒸發膜料靶材陶瓷基板

作者: 發布時間:2023-06-21 瀏(liú)覽次數:462
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高溫(wēn)排膠燒結爐(lú)的應用於(yú)蒸發膜料,濺(jiàn)射靶材,陶瓷基板(氮化鋁氧化(huà)鋁)、玻璃金(jīn)屬燒結外殼電鍍陶瓷基板、DBC直接鍵合陶瓷基板、AMB活性金屬焊接陶瓷基板、HTCC高溫共燒陶瓷等。從基板材(cái)料角度來看,主要有氧化鋁,氮化鋁,氮化矽(guī),氧化鈹等;其焊接材料,電子漿料種類眾多,工藝複雜;陶瓷基板及其覆銅板對生產工藝精度要求極其(qí)嚴格,部(bù)分關鍵材料技術門檻高。受(shòu)益於下(xià)遊強勢增長需求拉動(dòng),陶瓷基板及其封裝市場將迎(yíng)來大(dà)爆發。目前已在半導體照明、激光、光通信、航空航天、汽車電子等領域得到廣泛應用。

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